Resin and resist composition

樹脂及びレジスト組成物

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition resin which can form resist patterns having excellent line edge roughness.SOLUTION: There is provided a resin obtained by reacting a polyhydric phenol with a compound represented by formula (1) [wherein, Rand Rare each independently H or methyl; Ais a divalent 1 to 20C saturated hydrocarbon group; and Ais preferably a divalent 1 to 10C saturated hydrocarbon group]. The polyhydric phenol is preferably at least one selected from the group consisting of a compound represented by formula (2) (not shown), a compound represented by formula (4) (not shown), a compound represented by formula (5) (not shown), a compound represented by formula (6) (not shown), and a compound represented by formula (7) (not shown).
【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることがレジスト組成物の樹脂を提供する。 【解決手段】式(1)で表される化合物と多価フェノールとを反応させて得られる樹脂。[式(1)中、R 1 及びR 2 は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。A 1 は、2価の炭素数1〜20の飽和炭化水素基を表し、A 1 は好ましくは2価の炭素数1〜10の飽和炭化水素基である。]多価フェノールは、式(2)で表される化合物、式(4)で表される化合物、式(5)で表される化合物、式(6)で表される化合物及び式(7)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物であることが好ましい。 【選択図】なし

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